四平废气公司 四平废气公司 ??由于活性炭在气相或液相吸附中，具有很强的吸附能力，活性炭有化学稳定性，良好的机械轻度等优点，可以水浸、耐酸、耐碱、能承受较高的温度和压力，还有活性炭具有一定的催化作用可以当做催化剂或者催化剂载体使用，因此活性炭自问世以来，就具有十分广泛的用途，各国都把活性炭应用在环境保护中，如空气净化、水处理等，使活性炭进入了一个个新的发展时期，可以说到了21世纪的今天 ，就是一个活性炭的时代。因为几乎不管什么行业，化工、石油、纺织、轻工、国防、食品、电力、原子能等生产部门，农业、医药、城市建设、环境保护、节约能源、人类生活以及尖端科学领域等等，都在不同程度的使用到了活性炭，活性炭将得到更大的发展，活性炭的需求量也将飞跃式的增长。活性炭吸附箱可与喷漆室、烘干室和喷、烘两用室配套使用，用于处理所产生的有机废气。废气处理设备广泛用于：由于活性炭具有有发达的孔隙结构和大的比表面积，因此它有超强的吸附性能，它的吸附性能可分为物理吸附和化学吸附。物理吸附是活性炭的主要吸附性能，所谓物理吸附就是靠分子间的范德华力把吸附质分子吸引到炭的表面上集中。这种在活性炭表面上的物理吸附是可逆的，为什么这样说呢？原因就是因为在一定温度和压力下达到吸附平衡后，在高温和低压下被吸附物质是可以被解吸出来的。也正是利用活性炭的吸附和解吸过程，使活性炭可以回收有机溶剂。活性炭解吸后，内部表面又恢复到原来的状态，所以活性炭在物理吸附中可以经过再生重复使用。四平废气公司 废气处理设备有机废气的燃烧及催化净化设备：燃烧法用于处理高浓度Voc与有恶臭的化合物很有效，其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧，大多数生成二氧化碳和水蒸气，可以排放到大气中。但当处理含氯和含硫的有机化合物时，燃烧生成产物中HCl或SO2，需要对燃烧后气体进一步处理。固体表面吸附了吸附质后，一部被吸附的吸附质可从吸附剂表面脱离，此现附。而当吸附进行一段时间后，由于表面吸附质的浓集，使其吸附能力明显下降而吸附净化的要求，此时需要采用一定的措施使吸附剂上已吸附的吸附质脱附，以协的吸附能力，这个过程称为吸附剂的再生。因此在实际吸附工程中，正是利用吸附一再生一再吸附的循环过程，达到除去废气中污染物质并回收废气中有用组分。由于活性炭具有有发达的孔隙结构和大的比表面积，因此它有超强的吸附性能，它的吸附性能可分为物理吸附和化学吸附。物理吸附是活性炭的主要吸附性能，所谓物理吸附就是靠分子间的范德华力把吸附质分子吸引到炭的表面上集中。这种在活性炭表面上的物理吸附是可逆的，为什么这样说呢？原因就是因为在一定温度和压力下达到吸附平衡后，在高温和低压下被吸附物质是可以被解吸出来的。也正是利用活性炭的吸附和解吸过程，使活性炭可以回收有机溶剂。活性炭解吸后，内部表面又恢复到原来的状态，所以活性炭在物理吸附中可以经过再生重复使用。
四平废气公司 固体表面吸附了吸附质后，一部被吸附的吸附质可从吸附剂表面脱离，此现附。而当吸附进行一段时间后，由于表面吸附质的浓集，使其吸附能力明显下降而吸附净化的要求，此时需要采用一定的措施使吸附剂上已吸附的吸附质脱附，以协的吸附能力，这个过程称为吸附剂的再生。因此在实际吸附工程中，正是利用吸附一再生一再吸附的循环过程，达到除去废气中污染物质并回收废气中有用组分。活性炭吸附塔设备特点：有机废气活性碳吸附塔广泛用于家具木业、化工涂料、金属表面处理等喷涂、喷漆、烘干等产生有机废气及异味场所，采用优质吸附活性碳作为吸附媒介，有机废气通过多层吸附层进行过滤吸附，从而达到净化废气的目的。?工艺(主要技术)特点：?◆?分为手动式和自动式两种，结构紧凑一体化，易于安装和操作维护；?◆?滤速高，处理量大，运行效果稳定，设备占地少；?◆?滤料截污容量大，孔隙率高，耐摩擦，比重适中。光催化和生物净化设备：光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无毒无害的产物，而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁，即使用常规的催化、氧化方法亦需要几百度的高温。
四平废气公司 废气处理设备曝气式活性污泥脱臭法原理：将恶臭物质以曝气形式分散到含活性污泥的混和液中，通过悬浮生长的微生物降解恶臭物质 适用范围广。适用范围：截至2013年，日本已用于粪便处理场、污水处理厂的臭气处理。优点：活性污泥经过驯化后，对不超过极限负荷量的恶臭成分，去除率可达99.5%以上。缺点：受到曝气强度的限制，该法的应用还有一定局限。活性碳吸附塔工作原理：该活性炭吸附装置主要由活性炭层和承托层组成。活性炭具有发达的空隙，比表面积大，具有很高的吸附能力。正是由于活性炭的这种特性，它在水的深度处理中被广泛应用，如生活给水，污水后段的（净水）深度处理等。?活性炭使用一段时间后，吸附了大量的吸附质，逐步趋向饱和，丧失了工作能力，严重时将穿透滤层，因此应进行活性炭的再生或更换。?承托层的主要作用是防止活性炭从设备中流失，在出水及反冲洗时起到一定的均匀布水作用。从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能，就足以激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂。常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，如CdS半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，Ti02的综合性能较好，是最广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。
